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第317章 前世网上最常见的话题 (2 / 4)

        光刻机是一定要搞的,这是其中最重要的一個工序,没有这个,其他的CVD、PVD、气体扩散、蒸镀、掺杂这些技术都会失去意义。

        从原理上来说就是,通过光刻技术,可以实现在指定区域进行掺杂、蚀刻、导线连接、形成工作结构等操作。

        严格说来,说“光刻机在硅片上刻出电路”是不对的。光刻本身是刻不出PN结,也形不成电路的,光刻只是为PN结、导线连接、内部元件的按要求产生,提供了一个条件,它刻出的,是电路的雏形,以及提供保护。

        就有点点类似我们在对工件喷漆的时候,会用报纸把工件上不需要喷漆的部分保护起来,仅此而已。

        但是没有这个保护,结果就好像在没有盖报纸的工件上喷漆,控制得再好,也会喷到不需要的地方去,这工件就废了,更别说在硅片这小的螺蛳壳里做道场了。

        不过光刻机这玩意,高振东现在根本就不去想什么紫外、极紫外光刻,浸润光刻,多次曝光这些鸟玩意,整个技术环境根本支撑不了的。

        他要搞的,就是用自己亲手做出来的现成的东西——激光光刻,同时光刻制程,他根本就不去想多少纳米,连微米级别都嫌高。

        对他来说,甚至只要亚毫米级别的就好,也就是100微米到10微米这个级别,能在1平方厘米的面积上,放下十来个乃至几十个晶体管就行。

        可别小看这个密度,已经能做很多事情了,尤其是对于DJS-60D乃至他规划中的二代高性能计算机来说。

        而且搞数字电路的都知道,有了合适的数字电路芯片,哪怕没有计算机,也能玩儿出很多花活,用简单的代价,实现很多控制需求了。

        对于这个制程精度,随便什么激光,其波长都是足够小了,功率也比较容易实现。

        至于极紫外光刻机,那是由于光刻制程小到一定程度的需求,而且功率很难做大,这时候想那玩意完全是做梦呢。

        至于亚毫米精度的光刻能不能实现,高振东还是有一定信心的,大不了请相关单位手搓几套光路系统,光源自己上就行,他可不只会红宝石激光器。

        作为前世的资深军迷,他心里门儿清,东北光学所可不是吃干饭的,那是相当牛逼的一个存在。

        而且原本来说,国内的集成电路其实起步并不晚,与普通人直觉反应相悖的是,我们的第一块集成电路,诞生于1965年,实用化的半自动接近式光刻机,诞生于1977年,这是一台分辨率可达2.5~5微米的光刻机,而仿制成功8080CPU,是在1979年,比汉斯猫还早一年。

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