第522章 分辨率10μm (2 / 4)

        高振东前世，在网上对线多年，对手能喷的东西，从逮着啥就能喷啥，慢慢演变为能喷啥才说啥。

        最后干脆成钉子户了，就在那少数几个领域蹲着不走了，任你东南西北风，我自巍然不动，嘴里只是说着“对呀对呀！……光刻机有几种光源，你知道么？”高振东看得愈不耐烦，拿着键盘走远。

        走远归走远，这几样东西的确是到他穿越为止，还没完全拿下的，至少是高端的没拿下，光刻机就是其中一种。

        他妈的，这辈子老子自己造一个玩玩，有几种光源我不知道，但是我知道这台能用，而且还挺好！

        高振东自己也换上防护服，和几名试验人员走进了超净室。

        试验人员早就把试验准备做好了，走进来之后，打开了几个开关，然后示意高振东：“高总，可以了。”

        高振东拿起专用夹具，从带干燥剂的硅片架里，小心的夹起了一片单晶硅片，放到了工件台上，然后扳动开关，硅片被吸附固定。

        这些单晶硅片已经经过清洗、干燥等处理，对光刻胶的附着力此时是最大的。

        然后高振东退后一步，将接下来的试验交给了马娟。

        要的就是一开始的那个爽感，至于具体操作，这些试验人员比他手脚麻利多了，专业的事情还是交给专业的人去做。

        要说高振东这个光刻机原始，那是真的原始，固定好硅片后，马娟开动开关，硅片开始旋转。

        这是高振东的设计，一步到位，光刻胶的涂布，他直接上了旋涂法，前世我们最早的光刻机是用什么方法涂布他不知道，但他知道综合性能肯定是旋涂法最好。

        旋涂法在单晶硅片这种平坦的简单表面涂布，平坦化能力强，容易控制厚度，涂层密度大，厚度均匀，不是没有缺陷，但是可以接受和处理。

        旋转很快达到了预设的转速，在涂料确定的情况下，涂层厚度这些涂布结果参数与转速高度相关，旋转的同时，工件台也在对硅片进行加热，这是为了进一步去除表面重新附着的水汽。

        这些小细节，都是高振东从前世带过来的，不起眼，但是很重要。

        加热时间满足预设要求之后，旋转也早已稳定，马娟拿起了滴管。

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